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Molybdenum sputtering लक्ष्य machined भागों
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$50≥10Kilogram

भुगतान प्रकार:L/C,T/T,D/P
इंकोटर्म:FOB
Min. आदेश:10 Kilogram
परिवहन:Ocean,Air,Land,Express
पैकेजिंग और डि...
इकाइयों की बिक्री : Kilogram

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उत्पाद विवरण
मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य एक लक्ष्य सामग्री है जिसका उपयोग भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) या मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग (स्पटरिंग) प्रक्रियाओं में किया जाता है। मोलिब्डेनम एक धातु तत्व है जिसमें अच्छी थर्मल चालकता, संक्षारण प्रतिरोध और यांत्रिक गुण हैं और इसलिए इसका व्यापक रूप से पतली फिल्मों और कोटिंग्स की तैयारी में उपयोग किया जाता है। Molybdenum Sputtering Targets4

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग आमतौर पर कार्यात्मक फिल्मों, ऑप्टिकल फिल्मों, ऑप्टिकल फिल्मों, संक्षारण-प्रतिरोधी फिल्मों आदि जैसी कार्यात्मक फिल्मों की तैयारी के लिए किया जाता है, उनका उपयोग ऑप्टिकल लेंस, ऑप्टिकल फिल्टर और अन्य ऑप्टिकल घटकों की तैयारी के लिए भी किया जाता है। मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्यों को पाउडर धातुकर्म, हॉट कम्प्रेशन मोल्डिंग, हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग और अन्य तरीकों से उच्च शुद्धता, एकरूपता और लक्ष्यों के घनत्व सुनिश्चित करने के लिए तैयार किया जाता है।

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्यों के विनिर्देशों और आकृतियों को ग्राहकों की जरूरतों के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है, और सामान्य आकृतियों में डिस्क, स्क्वायर, आयत और इतने पर शामिल हैं। उपयोग के दौरान, स्पटरिंग प्रक्रिया की स्थिरता और फिल्म की परत की गुणवत्ता सुनिश्चित करने के लिए लक्ष्य की सतह को साफ और सपाट रखने के लिए देखभाल की आवश्यकता होती है।
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